Machine de nettoyage de plaquettes de semi-conducteurs

La JTM-100504AD est une machine entièrement automatique à 10 cuves, développée pour le nettoyage de haute précision des plaquettes de semi-conducteurs. Dotée d’un système ultrasonore bifréquence de 40kHz–80kHz, elle intègre le nettoyage alcalin par ultrasons, le nettoyage acide par ultrasons et le rinçage à l’eau déionisée en plusieurs étapes, avec une température maximale de nettoyage de 60℃. Elle élimine efficacement les résidus de résine photosensible, les contaminants particulaires, les impuretés métalliques, les graisses organiques et les oxydes inorganiques à la surface des plaquettes, en prévenant les microdégradations, la réadhésion des particules et la contamination croisée afin de garantir une propreté de surface et une planéité très élevées. Avec une implantation à 10 postes et un transfert automatique par portique, des dimensions hors tout de 12M2M2.8M, une puissance totale de 120KW et un poids net de 5000kg, la machine possède une structure hermétique résistante à la corrosion, une régulation précise de la température et une filtration en circulation à haut rendement. Elle convient au nettoyage humide des plaquettes de silicium, des plaquettes de SiC, des plaquettes de saphir et d’autres substrats semi-conducteurs. Elle répond aux spécifications strictes de propreté des procédés de fabrication en amont des semi-conducteurs et assure un prétraitement fiable avant le dépôt de revêtements, la gravure, le collage et d’autres opérations essentielles de fabrication.