W produkcji półprzewodników wybór między przetwornikiem megadźwiękowym 950 kHz (Przetwornik megasoniczny 950 kHz do mycia płytek) a wieloczęstotliwościową myjką ultradźwiękową do płytek krzemowych 28/40/80/120 kHz (Urządzenie do mycia płytek półprzewodnikowych, W pełni automatyczny system mycia ultradźwiękowego płytek półprzewodnikowych, W pełni automatyczne, przyjazne dla środowiska urządzenie do mycia ultradźwiękowego wafli i chipów krzemowych) decyduje o bezpiecznym usuwaniu cząstek submikronowych.
1. Fizyka fali 950 kHz a kawitacja 28–120 kHz
Przetworniki Z4A95012-B (120 W), Z8B95024-B (240 W) oraz Z16B95048-B (480 W) pracują przy 950 kHz ± 25 kHz z uszczelnieniem FKM, usuwając cząstki 0,15 μm bez uszkodzeń struktur krzemowych.
2. Zestawienie systemów półprzewodnikowych Jietai
| Model | Equipment Configuration | Frequency / Power | Tank / System Dimensions | Primary Semiconductor Application |
|---|---|---|---|---|
| Z4A95012-B / Z8B95024-B / Z16B95048-B | Przetwornik megasoniczny 950 kHz do mycia płytek | 950 kHz ± 25 kHz / 120 W, 240 W, 480 W | 45×45 / 72×45 / 126×45 mm | Sub-0.2 μm particle removal on silicon wafers & photomasks |
| JTM-100504AD | Urządzenie do mycia płytek półprzewodnikowych | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 25.2 kW ultrasonic | 10-tank PLC gantry (650×550×400 mm tanks) | Multi-stage silicon wafer cassette cleaning & DI rinse |
| JTM-10720AD | W pełni automatyczny system mycia ultradźwiękowego płytek półprzewodnikowych | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 36 kW ultrasonic | 10-tank automatic line (800×600×500 mm) | High-throughput wafer boat & quartz carrier wet bench |
| JTW-90360AD | W pełni automatyczne, przyjazne dla środowiska urządzenie do mycia ultradźwiękowego wafli i chipów krzemowych | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 18 kW ultrasonic | 9-tank eco-friendly wafer line | Silicon chip degreasing, cascade DI water rinsing & HEPA drying |
| JTW-4096AD | W pełni automatyczny system mycia ultradźwiękowego w wykonaniu przeciwwybuchowym | 28 / 40 kHz / 4.8 kW (Ex d IIB T4) | 4-tank explosion-proof IPA system | Isopropyl alcohol (IPA) solvent cleaning & vapor drying |
| JTM-30960FD | Ręczna linia do polerowania elektrolitycznego EP, pasywacji i mycia korpusów zaworów dla przemysłu półprzewodnikowego | 28 / 40 kHz / 48 kW ultrasonic | Multi-stage EP + passivation + DI rinse | Semiconductor UHP stainless steel valve body electropolishing |
3. Systemy przeciwwybuchowe IPA, elektropolerowanie EP oraz woda RO+EDI
Zobacz także przeciwwybuchowy system W pełni automatyczny system mycia ultradźwiękowego w wykonaniu przeciwwybuchowym (JTW-4096AD), linię elektropolerowania i pasywacji zaworów Ręczna linia do polerowania elektrolitycznego EP, pasywacji i mycia korpusów zaworów dla przemysłu półprzewodnikowego (JTM-30960FD), system natryskowy 3-komorowy system mycia natryskowego i suszenia (JTM-30120AD) oraz stację wody ultraczystej System wody ultraczystej 1 Ton z dwustopniową odwróconą osmozą + EDI (JTC-1TRO).
Najczęściej zadawane pytania (FAQ)
Czym różni się czyszczenie megadźwiękowe 950 kHz od 120 kHz?
Fala 950 kHz wytwarza szybki przepływ akustyczny o warstwie przyściennej ~0,8 μm, usuwając submikronowe zanieczyszczenia bez gwałtownej implozji pęcherzyków.
Jakie moce oferują przetworniki 950 kHz Jietai?
120 W (Z4A95012-B), 240 W (Z8B95024-B) oraz 480 W (Z16B95048-B) z generatorem 220 V / 50 Hz.
Jaka czystość wody jest wymagana do płukania płytek krzemowych?
Dwustopniowa odwrócona osmoza z modułem EDI (JTC-1TRO) zapewnia płukanie bez plam jonowych.