En la fabricación de semiconductores, elegir entre un transductor megasónico de 950 kHz (Transductor de limpieza megasónica de 950 kHz) y una máquina de limpieza ultrasónica de obleas de 28/40/80/120 kHz (Máquina de limpieza de obleas semiconductoras, Sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático para obleas semiconductoras, Máquina de limpieza por ultrasonidos totalmente automática y respetuosa con el medio ambiente para obleas y chips de silicio) garantiza la eliminación de partículas submicrónicas sin dañar las microestructuras de silicio.
1. Corriente acústica a 950 kHz frente a cavitación de 28–120 kHz
Los modelos Z4A95012-B (120 W), Z8B95024-B (240 W) y Z16B95048-B (480 W) operan a 950 kHz ± 25 kHz con sellado de caucho fluorado (FKM) para desprender partículas de 0,15 μm sin erosión por cavitación.
2. Matriz de equipos para semiconductores Jietai
| Model | Equipment Configuration | Frequency / Power | Tank / System Dimensions | Primary Semiconductor Application |
|---|---|---|---|---|
| Z4A95012-B / Z8B95024-B / Z16B95048-B | Transductor de limpieza megasónica de 950 kHz | 950 kHz ± 25 kHz / 120 W, 240 W, 480 W | 45×45 / 72×45 / 126×45 mm | Sub-0.2 μm particle removal on silicon wafers & photomasks |
| JTM-100504AD | Máquina de limpieza de obleas semiconductoras | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 25.2 kW ultrasonic | 10-tank PLC gantry (650×550×400 mm tanks) | Multi-stage silicon wafer cassette cleaning & DI rinse |
| JTM-10720AD | Sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático para obleas semiconductoras | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 36 kW ultrasonic | 10-tank automatic line (800×600×500 mm) | High-throughput wafer boat & quartz carrier wet bench |
| JTW-90360AD | Máquina de limpieza por ultrasonidos totalmente automática y respetuosa con el medio ambiente para obleas y chips de silicio | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 18 kW ultrasonic | 9-tank eco-friendly wafer line | Silicon chip degreasing, cascade DI water rinsing & HEPA drying |
| JTW-4096AD | Sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático a prueba de explosiones | 28 / 40 kHz / 4.8 kW (Ex d IIB T4) | 4-tank explosion-proof IPA system | Isopropyl alcohol (IPA) solvent cleaning & vapor drying |
| JTM-30960FD | Línea manual de EP, electropulido, pasivado y limpieza de cuerpos de válvula para semiconductores | 28 / 40 kHz / 48 kW ultrasonic | Multi-stage EP + passivation + DI rinse | Semiconductor UHP stainless steel valve body electropolishing |
3. Sistemas antideflagrantes IPA, electropulido EP y agua ultrapura RO+EDI
Integre nuestro sistema antideflagrante Sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático a prueba de explosiones (JTW-4096AD), la línea de electropulido y pasivación de válvulas Línea manual de EP, electropulido, pasivado y limpieza de cuerpos de válvula para semiconductores (JTM-30960FD), el sistema Sistema de pulverización y secado de 3 cubas (JTM-30120AD) y la planta de agua ultrapura Sistema de agua ultrapura de 1 Ton con ósmosis inversa de dos etapas + EDI (JTC-1TRO).
Preguntas frecuentes (FAQ)
¿Cuál es la diferencia entre limpieza megasónica a 950 kHz y ultrasónica a 120 kHz?
A 950 kHz predomina la corriente acústica de alta velocidad (capa límite de ~0,8 μm), eliminando partículas submicrónicas sin implosiones bruscas.
¿Qué potencias tienen los transductores megasónicos Jietai?
120 W (Z4A95012-B), 240 W (Z8B95024-B) y 480 W (Z16B95048-B) con generador de 220 V / 50 Hz.
¿Qué pureza de agua requiere el enjuague final de obleas?
Agua ultrapura de ósmosis inversa de dos etapas + EDI (JTC-1TRO) para evitar residuos iónicos.