Dans l’industrie des semi-conducteurs, le choix entre un transducteur mégasonique 950 kHz (Transducteur de nettoyage mégasonique 950 kHz) et une machine de nettoyage de wafers à ultrasons 28/40/80/120 kHz (Machine de nettoyage de plaquettes de semi-conducteurs, Système de nettoyage par ultrasons entièrement automatique pour plaquettes de semi-conducteurs, Machine de nettoyage par ultrasons entièrement automatique et respectueuse de l’environnement pour wafers et puces en silicium) détermine l’élimination des particules submicroniques sans endommager les motifs gravés.
1. Courant acoustique 950 kHz vs cavitation 28–120 kHz
Les modèles Z4A95012-B (120 W), Z8B95024-B (240 W) et Z16B95048-B (480 W) fonctionnent à 950 kHz ± 25 kHz avec joint FKM pour déloger les particules de 0,15 μm sans érosion.
2. Tableau comparatif des équipements semi-conducteurs Jietai
| Model | Equipment Configuration | Frequency / Power | Tank / System Dimensions | Primary Semiconductor Application |
|---|---|---|---|---|
| Z4A95012-B / Z8B95024-B / Z16B95048-B | Transducteur de nettoyage mégasonique 950 kHz | 950 kHz ± 25 kHz / 120 W, 240 W, 480 W | 45×45 / 72×45 / 126×45 mm | Sub-0.2 μm particle removal on silicon wafers & photomasks |
| JTM-100504AD | Machine de nettoyage de plaquettes de semi-conducteurs | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 25.2 kW ultrasonic | 10-tank PLC gantry (650×550×400 mm tanks) | Multi-stage silicon wafer cassette cleaning & DI rinse |
| JTM-10720AD | Système de nettoyage par ultrasons entièrement automatique pour plaquettes de semi-conducteurs | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 36 kW ultrasonic | 10-tank automatic line (800×600×500 mm) | High-throughput wafer boat & quartz carrier wet bench |
| JTW-90360AD | Machine de nettoyage par ultrasons entièrement automatique et respectueuse de l’environnement pour wafers et puces en silicium | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 18 kW ultrasonic | 9-tank eco-friendly wafer line | Silicon chip degreasing, cascade DI water rinsing & HEPA drying |
| JTW-4096AD | Système de nettoyage par ultrasons antidéflagrant entièrement automatique | 28 / 40 kHz / 4.8 kW (Ex d IIB T4) | 4-tank explosion-proof IPA system | Isopropyl alcohol (IPA) solvent cleaning & vapor drying |
| JTM-30960FD | Ligne manuelle d’EP, d’électropolissage, de passivation et de nettoyage des corps de vanne pour semi-conducteurs | 28 / 40 kHz / 48 kW ultrasonic | Multi-stage EP + passivation + DI rinse | Semiconductor UHP stainless steel valve body electropolishing |
3. Systèmes antidéflagrants IPA, électropolissage EP et eau ultra-pure RO+EDI
Découvrez également notre système antidéflagrant Système de nettoyage par ultrasons antidéflagrant entièrement automatique (JTW-4096AD), la ligne d’électropolissage de corps de vannes Ligne manuelle d’EP, d’électropolissage, de passivation et de nettoyage des corps de vanne pour semi-conducteurs (JTM-30960FD), le système Système à 3 cuves avec aspersion et séchage (JTM-30120AD) et l’unité d’eau ultra-pure Système de production d’eau ultrapure 1 Ton par osmose inverse à deux étages + EDI (JTC-1TRO).
Questions fréquentes (FAQ)
Quelle est la différence entre le nettoyage mégasonique 950 kHz et les ultrasons 120 kHz ?
Le 950 kHz utilise le courant acoustique à haute fréquence (couche limite ~0,8 μm) pour éliminer les particules submicroniques sans implosion violente de bulles.
Quelles sont les puissances des transducteurs 950 kHz Jietai ?
120 W (Z4A95012-B), 240 W (Z8B95024-B) et 480 W (Z16B95048-B) avec générateur 220 V / 50 Hz.
Quelle qualité d’eau est requise pour le rinçage final des wafers ?
Une eau ultra-pure RO bipasse + EDI (JTC-1TRO) évite tout résidu ionique avant séchage HEPA.