In der Halbleiterfertigung und MEMS-Prozessierung entscheidet die Wahl zwischen einem 950-kHz-Megaschallreiniger (950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger) und einer mehrstufigen 28/40/80/120-kHz-Halbleiter-Wafer-Reinigungsanlage (Reinigungsanlage für Halbleiterwafer, Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer, Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips) über die schädigungsfreie Partikelentfernung im Submikrometerbereich.
1. Akustische Strömung bei 950 kHz vs. Kavitation bei 28–120 kHz
Während 28 kHz und 40 kHz starke transiente Kavitation für Wafer-Carrier und Edelstahl-Ventilkörper (Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen) erzeugen und 80/120 kHz feine Mikrokavitation liefern, arbeitet unser 950-kHz-Megaschallschwinger (Z4A95012-B mit 120 W, Z8B95024-B mit 240 W, Z16B95048-B mit 480 W) mit hochfrequenter Schlichting-Strömung zur Entfernung von Partikeln ab 0,15 μm ohne Strukturbeschädigung.
2. Technische Spezifikationen der Jietai Halbleiter-Reinigungsanlagen
| Modell | Anlagenkonfiguration | Frequenz / Leistung | Systemaufbau | Halbleiter-Anwendung |
|---|---|---|---|---|
| Z4A95012-B / Z8B95024-B / Z16B95048-B | 950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger | 950 kHz ± 25 kHz / 120 W, 240 W, 480 W | 45×45 / 72×45 / 126×45 mm | Sub-0.2 μm particle removal on silicon wafers & photomasks |
| JTM-100504AD | Reinigungsanlage für Halbleiterwafer | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 25.2 kW ultrasonic | 10-Kammer-SPS-Portalanlage (650×550×400 mm tanks) | Multi-stage silicon wafer cassette cleaning & DI rinse |
| JTM-10720AD | Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer | 40 kHz ultrasonic | Automatische 10-Kammer-Reinigungs- und Trocknungslinie | High-throughput wafer boat & quartz carrier wet bench |
| JTW-90360AD | Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips | 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 18 kW ultrasonic | Umweltfreundliche 9-Kammer-Wafer-Reinigungsanlage | Silicon chip degreasing, cascade DI water rinsing & HEPA drying |
| JTW-4096AD | Vollautomatisches explosionsgeschütztes Ultraschallreinigungssystem | 28 / 40 kHz / 4.8 kW ultrasonic | Explosionsgeschützte 4-Kammer-IPA-Reinigungsanlage | Isopropyl alcohol (IPA) solvent cleaning & vapor drying |
| JTM-30960FD | Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen | 28 / 40 kHz / 48 kW ultrasonic | Mehrstufige EP-Elektropolier-, Passivierungs- & Spüllinie | Semiconductor UHP stainless steel valve body electropolishing |
3. Explosionsgeschützte IPA-Anlagen, Elektropolieren (EP) & Reinstwasser (RO+EDI)
Für lösungsmittelbasierte IPA-Prozesse liefert Jietai das explosionsgeschützte System Vollautomatisches explosionsgeschütztes Ultraschallreinigungssystem (JTW-4096AD) sowie das Sprüh- und Trocknungssystem 3-Kammer-Sprüh- und Trocknungssystem (JTM-30120AD) in Kombination mit unserer 1 Ton Reinstwassersystem mit zweistufiger Umkehrosmose + EDI (JTC-1TRO).
4. Edelstahl-Wannenkonstruktion (SUS304 / SUS316L), Schwingeranbindung & Leistungsauslegung
In der industriellen Serienfertigung bestimmt die mechanische Ausführung der Ultraschallwanne unmittelbar die Gleichmäßigkeit des Kavitationsfeldes und die Lebensdauer der Anlage. Guangdong Jietai fertigt Tischgeräte (0,8 L bis 30 L der JPS-Serie) mit gezogenen Wannen aus Edelstahl SUS304, während bodenstehende Einkammeranlagen (JTS-Serie) sowie Mehrkammer- und Sonderanlagen (JTM-, JT-, JTV- und JTW-Serie) aus dickwandigen, WIG-geschweißten Edelstahlplatten (SUS304 oder optional SUS316L) hergestellt werden. Die Abstrahlflächen werden präzise vorbehandelt, mit Stehbolzen verschweißt und im Hochtemperatur-Epoxidverfahren verklebt, damit die piezoelektrischen Ultraschallschwinger ihre Schallenergie auch im Dauerbetrieb bei Badtemperaturen bis 80 °C verlustfrei in die Reinigungsflüssigkeit übertragen.
Bei der Auslegung der Ultraschallleistung führt eine starre Faustformel über alle Baugrößen hinweg oft zu Fehldimensionierungen. Während kompakte Tischgeräte aufgrund geringer Flüssigkeitshöhe mit höherer spezifischer Leistungsdichte arbeiten, wechselt die akustische Konstruktion bei Industriewannen ab 38 L bis über 1.000 L von reiner Bodenbeschallung auf kombinierte Boden- und Seitenwandschwinger oder einhängbare Tauchschwingerplatten (JTP-1008S bis JTP-1048S). Seitlich angeordnete Schwinger stellen sicher, dass hohe Werkstücke wie Hydraulikzylinder, Spritzguss-Formeinsätze oder Wafer-Horden über die gesamte Bauteilhöhe gleichmäßig beschallt werden. Angesteuert werden die Schwingergruppen über externe digitale Ultraschallgeneratoren (JTF-Serie, 900 W bis 2.400 W), die getrennt vom Feuchtraum im belüfteten Schaltschrank montiert sind.
5. Korbbelegung, Badentgasung & Kreislauffiltration im Produktionsbetrieb
Für reproduzierbare Reinigungsergebnisse dürfen Werkstücke niemals direkt auf dem Wannenboden abgelegt werden. Bauteile müssen stets in perforierten Edelstahlkörben oder produktspezifischen Warenträgern mit mindestens 30 mm bis 50 mm Abstand zur abstrahlenden Bodenfläche positioniert werden, um Membranschäden und akustische Abschattung zu vermeiden. Nach jedem Neuansatz von Wasser, wässrigem Reiniger oder Kohlenwasserstoff-Lösemittel ist das Bad vor der ersten Teilecharge für 10 bis 20 Minuten zu entgasen (über die Degas-Funktion oder Vakuumentgasung), damit gelöste Luftblasen entweichen und die Kavitationsenergie tief in Sacklöcher, Gewindebohrungen und Kapillarspalten eindringen kann.
Beim Entfetten stark ölbehafteter Stanz-, Dreh- und Frästeile sammelt sich aufschwimmendes Fremdöl an der Badoberfläche. Ohne Überlaufwehr, Ölabscheider und Pumpen-Umwälzfiltration (mit wechselbaren Polypropylen-Filterkerzen) würden gereinigte Werkstücke beim Ausheben erneut durch den Ölfilm gezogen. In mehrstufigen JTM-FRD- und JTM-FRSD-Linien sorgt die Kombination aus gefiltertem Ultraschall-Waschbad, Kaskaden-Spülbädern und Heißluft-Turbinentrocknung für rückstandsfreie Oberflächen vor der Weiterverarbeitung oder Beschichtung.
6. Technische Checkliste für die Anlagenпроекtierung & Waschversuche
Um eine Standardanlage oder eine kundenspezifische Mehrkammer-Ultraschallreinigungslinie exakt auf Ihren Fertigungsprozess abzustimmen, erfassen unsere Projektingenieure im Werk Dongguan fünf zentrale Prozessparameter:
- Werkstückgeometrie, Werkstoff & Chargengewicht: Maximale Außenabmessungen (L × B × H in mm), Grundwerkstoff (Werkzeugstahl, Edelstahl, Aluminium, Buntmetall, optisches Glas oder Siliziumwafer) sowie Stückzahl bzw. Gewicht pro Korbcharge.
- Art der Verschmutzung & Vorprozess: Zieh- und Stanzöle, wasserlösliche Kühlschmierstoffe, Polierpaste (Ceroxid), Flussmittelreste, Polymer-Ausgasungen oder Läppmittel – entscheidend für die Wahl zwischen wässriger Mehrkammeranlage, elektrolytischer Formenreinigung oder Kohlenwasserstoff-/Dampfphasensystem.
- Sacklöcher, Innenkanäle & Oberflächenempfindlichkeit: Kleinste Bohrungsdurchmesser sowie Anforderungen an umschaltbare Frequenzen (28/40 kHz), Hochfrequenz-Optikreinigung (80/120 kHz) oder 950-kHz-Megaschall.
- Trocknungs- & Korrosionsschutzverfahren: Auswahl zwischen manuellem Abblasen, Luftmesser-Abstreifung, Rostschutz-Passivierung, Umluft-Trockentunnel, Rotations-Zentrifugaltrocknung oder Vakuumtrocknung.
- Aufstellfläche & Medienversorgung: Verfügbare Hallenlänge, Raumhöhe für Elektrokettenzug oder SPS-Portalarm, Stromanschluss sowie optionale Einbindung von Reinstwasseranlagen (RO+EDI), Prozesskühlern und Abwasseraufbereitung.
Häufig gestellte Fragen (FAQ)
Was unterscheidet die 950-kHz-Megaschallreinigung von 120-kHz-Ultraschall?
950 kHz Megaschall reduziert die akustische Grenzschicht auf ca. 0,8 μm und löst Submikron-Partikel durch gerichtete akustische Strömung statt durch implodierende Kavitationsblasen.
Welche Leistungen bieten die Jietai 950-kHz-Megaschallschwinger?
Die Baureihe umfasst Z4A95012-B (120 W, 45×45 mm), Z8B95024-B (240 W, 72×45 mm) und Z16B95048-B (480 W, 126×45 mm) mit FKM-Fluorkautschukdichtung.
Wie werden Wasserflecken auf Siliziumwafern verhindert?
Durch Kaskadenspülung mit zweistufigem RO+EDI-Reinstwasser (JTC-1TRO) und anschließende HEPA-Heißluft- oder IPA-Trocknung.
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Weiterführende Technik- & Auslegungsleitfäden
950 kHz Megaschall-Waferreinigung vs. 28–120 kHz Halbleiter-Ultraschall-Nassbänke · Ultraschallreinigungskorb: Auswahl und Reinigungswirkung · Ultraschallreinigungsanlage: Auswahl und Vergleich · Ultraschallwandler: Funktion, Bauarten und Austausch · Ultraschallreinigung von Injektoren im Serienbetrieb: Was Wiederaufbereiter brauchen und ein Tischgerät nicht leisten kann · Ultraschallreinigung von Motorblöcken: Beckengröße, Kohlenstoffentfernung und das Aluminiumproblem · RO- oder DI-Wasser für Ultraschall-Spülstufen: Wenn Leitungswasser Ihre Bauteile kostet · Was „der beste industrielle Ultraschallreiniger“ wirklich bedeutet: Eine Checkliste für Käufer · Den richtigen Ultraschallreiniger für medizinische Instrumente auswählen · Ultraschallreiniger von 1,3 bis 30 Liter: Wannenmaße, Leistung und Baureihen · Umweltschutztrends bei industriellen Reinigungsanlagen · Wie Ultraschallreinigung tatsächlich funktioniert · Warum Sacklochbohrungen verschmutzt bleiben, obwohl das Bauteil sauber aussieht · Bedienungsanleitung für die Multifunktions-, Mechanik- und Digital-Serie (PDF auf Englisch)
Empfohlene industrielle Ultraschallreinigungsanlagen von Jietai für diesen Prozess: Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen (DUAL), Kühler (CHILLER), 1 Ton Reinstwassersystem mit zweistufiger Umkehrosmose + EDI (1), Reinigungsblatt (CLEANING).
Passende Ultraschallanlagen, Kategorien & Technikleitfäden
Vollständiges Verzeichnis der Ultraschallanlagen, Kategorien & Leitfäden
- Digitale Serie Schwarz-Titan
- Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Smartphone-Kameraeinfassungen
- Eintauchbare Ultraschallsonde / Ultraschall-Schwingstab
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage
- Zwei-Kammer-Serie für Reinigung + Filtration + Trocknung
- Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Trocknung
- Industrielle Abwasserbehandlung
- Umkehrosmose-Membrananlage
- Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen
- Kühler
- 1 Ton Reinstwassersystem mit zweistufiger Umkehrosmose + EDI
- Reinigungsblatt
- Schallplatten-Reinigungshalterung
- 950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger
- Filterkerze aus Filtervlies
- Ultraschall-Tauchschwinger
- Digitalserie
- Ultraschallgenerator
- Intelligente digitale Dreifrequenz-Serie
- Zweifrequenz-Ultraschallreinigungsanlage
- Digitale Multifunktionsserie
- Serie mit digitaler Leistungsregelung
- Serie mit mechanischer Bedienung
- Vierkammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Spülen + Trocknung
- Vierkammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Sprühen + Trocknung
- Dreikammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Trocknung
- Einkammer-Serie für die Ultraschallreinigung
- Einkammer-Ultraschallreinigungsanlage + Filtersystem
- 3-Kammer-Sprüh- und Trocknungssystem
- Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips
- Elektrolytische Ultraschallreinigungsanlage
- Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen
- Vollautomatisches explosionsgeschütztes Ultraschallreinigungssystem
- Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer
- Reinigungsanlage für Halbleiterwafer
- Auskochwanne
- Durchlauf-Reinigungs- und Trocknungssystem mit Gitterbandförderer für Medizinprodukte
- Elektrolytische Ultraschallreinigungs- und Trocknungsanlage für Formen
- Manuelle Ultraschallreinigungsanlage mit oszillierender Bewegung und staubdichter Absaughaube
- Vollautomatische Einkammer-Reinigungsanlage mit Hubsystem
- Ultraschall-Vakuumreinigungsanlage mit 7 Wannen für Display-Zubehör
- Vollautomatische Ultraschallreinigungslinie für Vorrichtungen für Mobiltelefonkameras
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage
- Industrielle Ultraschallreinigungsanlage mit einer Wanne
- Spritzreinigungsanlage zur Vorreinigung von Mobiltelefon-Mittelrahmen
- Manuelle Reinigungsanlage mit 7 Wannen
- Horizontale Durchlaufreinigungslinie für Glaslinsen
- Ultraschall-Durchlaufreinigungsanlage für elektronische Wägezellen mit Spritzspülen und Heißlufttrocknung
- 40-Tonnen-Anlage zur industriellen Abwasserbehandlung
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage für Hydraulikzylinderrohre
- Einwannen-Ultraschallreinigungsanlage mit Hubfunktion
- Tunneltrocknungsofen mit Heißluftumwälzung
- Vollautomatisches Ultraschallreinigungs- und Trocknungssystem
- Manuelle Ultraschallreinigungsanlage
- Durchlaufreinigungsanlage mit Netzbandförderer, Sprühreinigung und Luftmesser
- Ultraschallreinigungsanlage mit elektrischem Hebezeug
- Ultraschallreinigungs- und Trocknungssystem für Infrarotlinsengläser
- Ultraschallreinigungs- und Zentrifugaltrocknungssystem für Flugzeugräder
- Manuelle 3-Wannen-Ultraschallreinigungsanlage
- 3-Wannen-Ultraschallreinigungsanlage
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage mit 3 Wannen
- Tunneltrocknungsanlage mit Fördersystem
- Vollautomatische Kohlenwasserstoff-Reinigungsanlage mit 6 Wannen
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage für Hydraulikzylinderrohre
- Ultraschallreinigungsanlage mit Dampfphasenreinigung
- Manuelle Ultraschallreinigungsanlage mit oszillierender Warenbewegung
- Manuelle Ultraschallreinigungsanlage
- Abwasserbehandlung
- Automobilfertigung
- Digital-Serie
- Digital-Serie mit Leistungsregelung
- Digitale Black-Titanium-Serie
- Digitale Multifunktions-Serie
- Dreikammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Einkammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Filterpatronen aus Filterwatte
- Halbleiterindustrie
- Industriekühlaggregate
- Industrielle Standard-Mehrkammer-Reinigungsanlagen
- Intelligente digitale Dreifrequenz-Serie
- Kundenspezifische Sonderanlagen
- Luft- und Raumfahrt sowie Wehrtechnik
- Medizintechnik
- Megaschallreinigung
- Optoelektronik
- Peripheriegeräte
- Präzisionsteilefertigung
- Reinigungstabletten
- Serie mit mechanischer Bedienung
- Standard-Ultraschallreinigungsgeräte
- Ultraschall-Tauchschwinger
- Ultraschall-Tauchsonde / Schwingstab
- Ultraschallgeneratoren
- Umkehrosmose- und EDI-Wasseraufbereitung
- Vierkammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Werkstückhalter und Reinigungskörbe
- Zubehör und Verbrauchsmaterialien
- Zweifrequenz-Ultraschallreinigungsgeräte
- Zweikammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Aktuelles
- Elektrolytische Ultraschall-Werkzeugreinigung: Beläge in Entlüftungskanälen & Spritzgussformen lösen
- Kohlenwasserstoff-Vakuum- & Dampfphasen-Ultraschallreinigungsanlagen für Präzisionsteile
- Ultraschallentfettung: Prozess, Chemie und Anlagen
- Ultraschallreinigungskorb: Auswahl und Reinigungswirkung
- Teilewäsche: Ultraschall oder Lösemittel?
- Ultraschallreinigungsanlage: Auswahl und Vergleich
- Ultraschallreiniger: Ersatzteile richtig auswählen
- Ultraschallwandler: Funktion, Bauarten und Austausch
- Prozesskühler für Ultraschall-Reinigungslinien: Auslegung, Aufstellung und typische Fehler
- Ultraschallreinigung von Injektoren im Serienbetrieb: Was Wiederaufbereiter brauchen und ein Tischgerät nicht leisten kann
- Wie Sie die Angaben eines Ultraschallreinigungs-Anbieters vor der Zahlung prüfen: Frequenz, Leistung, Kavitation
- Ultraschallreinigung von Motorblöcken: Beckengröße, Kohlenstoffentfernung und das Aluminiumproblem
- Ultraschallentfettung vs. Dampfentfettung: Die Entscheidung dreht sich nicht um die Reinigungsleistung
- RO- oder DI-Wasser für Ultraschall-Spülstufen: Wenn Leitungswasser Ihre Bauteile kostet
- Abwasserbehandlung für Bauteil-Reinigungslinien: Was Ihre Einleiterlaubnis tatsächlich verlangt
- Was „der beste industrielle Ultraschallreiniger“ wirklich bedeutet: Eine Checkliste für Käufer
- Ultraschallreinigung von Leiterplatten: Was Baugruppen tatsächlich beschädigt
- Den richtigen Ultraschallreiniger für medizinische Instrumente auswählen
- Ultraschall-Tischgerät bedienen und warten: Aufstellen, Entgasen, Heizen, Tankreinigung und Fehlerbehebung
- Ultraschallreiniger von 1,3 bis 30 Liter: Wannenmaße, Leistung und Baureihen
- Die wachsende Bedeutung der Ultraschallreinigung in der modernen Fertigung
- Umweltschutztrends bei industriellen Reinigungsanlagen
- Wie automatisierte Reinigungssysteme die Produktionseffizienz steigern
- Wie Ultraschallreinigung tatsächlich funktioniert
- Das richtige Reinigungsmittel für die Ultraschallreinigung auswählen
- Warum Sacklochbohrungen verschmutzt bleiben, obwohl das Bauteil sauber aussieht
- Ultraschallreinigung: Welche Frequenz – 28, 40 oder 80 kHz?
- Bedienungsanleitung für die Multifunktions-, Mechanik- und Digital-Serie (PDF auf Englisch)
- Bedienungsanleitung für den 0,8-L-Ultraschallreiniger (PDF auf Englisch)
Frequently Asked Questions – Häufig gestellte technische Fragen (FAQ)
Wie wählt man zwischen 28 kHz, 40 kHz und 80–120 kHz Ultraschallfrequenz?
28 kHz eignet sich für starke Verschmutzungen auf Guss- und Stahlteilen, 40 kHz ist der Industriestandard für CNC-Bauteile, und 80–120 kHz schützt empfindliche Optik- und Halbleiteroberflächen.
Welche Wannengröße und Leistungsdichte werden für die Serienreinigung benötigt?
Planen Sie 10–15 W/L Ultraschall-Leistungsdichte für die Standardentfettung sowie SUS304/SUS316L Edelstahlwannen mit Filtration und Heißlufttrocknung.
Welche Zertifizierungen erfüllen die Ultraschallreinigungsanlagen von JieTai?
Unsere industriellen Ultraschallreinigungsanlagen entsprechen den Richtlinien CE, FCC und RoHS.
Complete Industrial Ultrasonic Equipment & Technical Guide Directory (DE)
- Aktuelles
- Ultraschall-Tauchschwinger
- Werkstückhalter und Reinigungskörbe
- Standard-Ultraschallreinigungsgeräte
- Digital-Serie
- Digitale Multifunktions-Serie
- Digitale Black-Titanium-Serie
- Digital-Serie mit Leistungsregelung
- Zweifrequenz-Ultraschallreinigungsgeräte
- Serie mit mechanischer Bedienung
- Intelligente digitale Dreifrequenz-Serie
- Industrielle Standard-Mehrkammer-Reinigungsanlagen
- Einkammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Zweikammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Dreikammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Vierkammer-Ultraschallreinigungsanlagen
- Abwasserbehandlung
- Ultraschall-Tauchsonde / Schwingstab
- Kundenspezifische Sonderanlagen
- Luft- und Raumfahrt sowie Wehrtechnik
- Automobilfertigung
- Medizintechnik
- Optoelektronik
- Präzisionsteilefertigung
- Halbleiterindustrie
- Peripheriegeräte
- Industriekühlaggregate
- Umkehrosmose- und EDI-Wasseraufbereitung
- Zubehör und Verbrauchsmaterialien
- Reinigungstabletten
- Filterpatronen aus Filterwatte
- Megaschallreinigung
- Ultraschallgeneratoren
- Downloads
- Digitale Serie Schwarz-Titan
- Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Smartphone-Kameraeinfassungen
- Eintauchbare Ultraschallsonde / Ultraschall-Schwingstab
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage
- Zwei-Kammer-Serie für Reinigung + Filtration + Trocknung
- Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Trocknung
- Industrielle Abwasserbehandlung
- Umkehrosmose-Membrananlage
- Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen
- Kühler
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- Reinigungsblatt
- Schallplatten-Reinigungshalterung
- 950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger
- Filterkerze aus Filtervlies
- Ultraschall-Tauchschwinger
- Digitalserie
- Ultraschallgenerator
- Intelligente digitale Dreifrequenz-Serie
- Zweifrequenz-Ultraschallreinigungsanlage
- Digitale Multifunktionsserie
- Serie mit digitaler Leistungsregelung
- Serie mit mechanischer Bedienung
- Vierkammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Spülen + Trocknung
- Vierkammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Sprühen + Trocknung
- Dreikammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Trocknung
- Einkammer-Serie für die Ultraschallreinigung
- Einkammer-Ultraschallreinigungsanlage + Filtersystem
- 3-Kammer-Sprüh- und Trocknungssystem
- Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips
- Elektrolytische Ultraschallreinigungsanlage
- Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen
- Vollautomatisches explosionsgeschütztes Ultraschallreinigungssystem
- Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer
- Reinigungsanlage für Halbleiterwafer
- Auskochwanne
- Durchlauf-Reinigungs- und Trocknungssystem mit Gitterbandförderer für Medizinprodukte
- Elektrolytische Ultraschallreinigungs- und Trocknungsanlage für Formen
- Manuelle Ultraschallreinigungsanlage mit oszillierender Bewegung und staubdichter Absaughaube
- Vollautomatische Einkammer-Reinigungsanlage mit Hubsystem
- Ultraschall-Vakuumreinigungsanlage mit 7 Wannen für Display-Zubehör
- Vollautomatische Ultraschallreinigungslinie für Vorrichtungen für Mobiltelefonkameras
- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage
- Industrielle Ultraschallreinigungsanlage mit einer Wanne
- Spritzreinigungsanlage zur Vorreinigung von Mobiltelefon-Mittelrahmen
- Manuelle Reinigungsanlage mit 7 Wannen
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- Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage mit 3 Wannen
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- 950 kHz Megaschall-Waferreinigung vs. 28–120 kHz Halbleiter-Ultraschall-Nassbänke
- Ultraschallentfettung: Prozess, Chemie und Anlagen
- Ultraschallreinigungskorb: Auswahl und Reinigungswirkung
- Teilewäsche: Ultraschall oder Lösemittel?
- Ultraschallreinigungsanlage: Auswahl und Vergleich
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- Ultraschallwandler: Funktion, Bauarten und Austausch
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- Ultraschallreiniger von 1,3 bis 30 Liter: Wannenmaße, Leistung und Baureihen
- Ultraschallreinigung von Injektoren im Serienbetrieb: Was Wiederaufbereiter brauchen und ein Tischgerät nicht leisten kann
- Prozesskühler für Ultraschall-Reinigungslinien: Auslegung, Aufstellung und typische Fehler
- Wie Sie die Angaben eines Ultraschallreinigungs-Anbieters vor der Zahlung prüfen: Frequenz, Leistung, Kavitation
- Ultraschallreinigung von Motorblöcken: Beckengröße, Kohlenstoffentfernung und das Aluminiumproblem
- Ultraschallentfettung vs. Dampfentfettung: Die Entscheidung dreht sich nicht um die Reinigungsleistung
- RO- oder DI-Wasser für Ultraschall-Spülstufen: Wenn Leitungswasser Ihre Bauteile kostet
- Abwasserbehandlung für Bauteil-Reinigungslinien: Was Ihre Einleiterlaubnis tatsächlich verlangt
- Was „der beste industrielle Ultraschallreiniger“ wirklich bedeutet: Eine Checkliste für Käufer
- Bedienungsanleitung für den 0,8-L-Ultraschallreiniger (PDF auf Englisch)
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