Automatic Cleaning System for Semiconductor Wafers - view 3

950 kHz Megaschall-Waferreinigung vs. 28–120 kHz Halbleiter-Ultraschall-Nassbänke

In der Halbleiterfertigung und MEMS-Prozessierung entscheidet die Wahl zwischen einem 950-kHz-Megaschallreiniger (950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger) und einer mehrstufigen 28/40/80/120-kHz-Halbleiter-Wafer-Reinigungsanlage (Reinigungsanlage für Halbleiterwafer, Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer, Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips) über die schädigungsfreie Partikelentfernung im Submikrometerbereich.

1. Akustische Strömung bei 950 kHz vs. Kavitation bei 28–120 kHz

Während 28 kHz und 40 kHz starke transiente Kavitation für Wafer-Carrier und Edelstahl-Ventilkörper (Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen) erzeugen und 80/120 kHz feine Mikrokavitation liefern, arbeitet unser 950-kHz-Megaschallschwinger (Z4A95012-B mit 120 W, Z8B95024-B mit 240 W, Z16B95048-B mit 480 W) mit hochfrequenter Schlichting-Strömung zur Entfernung von Partikeln ab 0,15 μm ohne Strukturbeschädigung.

2. Technische Spezifikationen der Jietai Halbleiter-Reinigungsanlagen

Modell Anlagenkonfiguration Frequenz / Leistung Systemaufbau Halbleiter-Anwendung
Z4A95012-B / Z8B95024-B / Z16B95048-B 950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger 950 kHz ± 25 kHz / 120 W, 240 W, 480 W 45×45 / 72×45 / 126×45 mm Sub-0.2 μm particle removal on silicon wafers & photomasks
JTM-100504AD Reinigungsanlage für Halbleiterwafer 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 25.2 kW ultrasonic 10-Kammer-SPS-Portalanlage (650×550×400 mm tanks) Multi-stage silicon wafer cassette cleaning & DI rinse
JTM-10720AD Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer 40 kHz ultrasonic Automatische 10-Kammer-Reinigungs- und Trocknungslinie High-throughput wafer boat & quartz carrier wet bench
JTW-90360AD Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips 28 / 40 / 80 / 120 kHz / 18 kW ultrasonic Umweltfreundliche 9-Kammer-Wafer-Reinigungsanlage Silicon chip degreasing, cascade DI water rinsing & HEPA drying
JTW-4096AD Vollautomatisches explosionsgeschütztes Ultraschallreinigungssystem 28 / 40 kHz / 4.8 kW ultrasonic Explosionsgeschützte 4-Kammer-IPA-Reinigungsanlage Isopropyl alcohol (IPA) solvent cleaning & vapor drying
JTM-30960FD Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen 28 / 40 kHz / 48 kW ultrasonic Mehrstufige EP-Elektropolier-, Passivierungs- & Spüllinie Semiconductor UHP stainless steel valve body electropolishing

3. Explosionsgeschützte IPA-Anlagen, Elektropolieren (EP) & Reinstwasser (RO+EDI)

Für lösungsmittelbasierte IPA-Prozesse liefert Jietai das explosionsgeschützte System Vollautomatisches explosionsgeschütztes Ultraschallreinigungssystem (JTW-4096AD) sowie das Sprüh- und Trocknungssystem 3-Kammer-Sprüh- und Trocknungssystem (JTM-30120AD) in Kombination mit unserer 1 Ton Reinstwassersystem mit zweistufiger Umkehrosmose + EDI (JTC-1TRO).

4. Edelstahl-Wannenkonstruktion (SUS304 / SUS316L), Schwingeranbindung & Leistungsauslegung

In der industriellen Serienfertigung bestimmt die mechanische Ausführung der Ultraschallwanne unmittelbar die Gleichmäßigkeit des Kavitationsfeldes und die Lebensdauer der Anlage. Guangdong Jietai fertigt Tischgeräte (0,8 L bis 30 L der JPS-Serie) mit gezogenen Wannen aus Edelstahl SUS304, während bodenstehende Einkammeranlagen (JTS-Serie) sowie Mehrkammer- und Sonderanlagen (JTM-, JT-, JTV- und JTW-Serie) aus dickwandigen, WIG-geschweißten Edelstahlplatten (SUS304 oder optional SUS316L) hergestellt werden. Die Abstrahlflächen werden präzise vorbehandelt, mit Stehbolzen verschweißt und im Hochtemperatur-Epoxidverfahren verklebt, damit die piezoelektrischen Ultraschallschwinger ihre Schallenergie auch im Dauerbetrieb bei Badtemperaturen bis 80 °C verlustfrei in die Reinigungsflüssigkeit übertragen.

Bei der Auslegung der Ultraschallleistung führt eine starre Faustformel über alle Baugrößen hinweg oft zu Fehldimensionierungen. Während kompakte Tischgeräte aufgrund geringer Flüssigkeitshöhe mit höherer spezifischer Leistungsdichte arbeiten, wechselt die akustische Konstruktion bei Industriewannen ab 38 L bis über 1.000 L von reiner Bodenbeschallung auf kombinierte Boden- und Seitenwandschwinger oder einhängbare Tauchschwingerplatten (JTP-1008S bis JTP-1048S). Seitlich angeordnete Schwinger stellen sicher, dass hohe Werkstücke wie Hydraulikzylinder, Spritzguss-Formeinsätze oder Wafer-Horden über die gesamte Bauteilhöhe gleichmäßig beschallt werden. Angesteuert werden die Schwingergruppen über externe digitale Ultraschallgeneratoren (JTF-Serie, 900 W bis 2.400 W), die getrennt vom Feuchtraum im belüfteten Schaltschrank montiert sind.

5. Korbbelegung, Badentgasung & Kreislauffiltration im Produktionsbetrieb

Für reproduzierbare Reinigungsergebnisse dürfen Werkstücke niemals direkt auf dem Wannenboden abgelegt werden. Bauteile müssen stets in perforierten Edelstahlkörben oder produktspezifischen Warenträgern mit mindestens 30 mm bis 50 mm Abstand zur abstrahlenden Bodenfläche positioniert werden, um Membranschäden und akustische Abschattung zu vermeiden. Nach jedem Neuansatz von Wasser, wässrigem Reiniger oder Kohlenwasserstoff-Lösemittel ist das Bad vor der ersten Teilecharge für 10 bis 20 Minuten zu entgasen (über die Degas-Funktion oder Vakuumentgasung), damit gelöste Luftblasen entweichen und die Kavitationsenergie tief in Sacklöcher, Gewindebohrungen und Kapillarspalten eindringen kann.

Beim Entfetten stark ölbehafteter Stanz-, Dreh- und Frästeile sammelt sich aufschwimmendes Fremdöl an der Badoberfläche. Ohne Überlaufwehr, Ölabscheider und Pumpen-Umwälzfiltration (mit wechselbaren Polypropylen-Filterkerzen) würden gereinigte Werkstücke beim Ausheben erneut durch den Ölfilm gezogen. In mehrstufigen JTM-FRD- und JTM-FRSD-Linien sorgt die Kombination aus gefiltertem Ultraschall-Waschbad, Kaskaden-Spülbädern und Heißluft-Turbinentrocknung für rückstandsfreie Oberflächen vor der Weiterverarbeitung oder Beschichtung.

6. Technische Checkliste für die Anlagenпроекtierung & Waschversuche

Um eine Standardanlage oder eine kundenspezifische Mehrkammer-Ultraschallreinigungslinie exakt auf Ihren Fertigungsprozess abzustimmen, erfassen unsere Projektingenieure im Werk Dongguan fünf zentrale Prozessparameter:

  • Werkstückgeometrie, Werkstoff & Chargengewicht: Maximale Außenabmessungen (L × B × H in mm), Grundwerkstoff (Werkzeugstahl, Edelstahl, Aluminium, Buntmetall, optisches Glas oder Siliziumwafer) sowie Stückzahl bzw. Gewicht pro Korbcharge.
  • Art der Verschmutzung & Vorprozess: Zieh- und Stanzöle, wasserlösliche Kühlschmierstoffe, Polierpaste (Ceroxid), Flussmittelreste, Polymer-Ausgasungen oder Läppmittel – entscheidend für die Wahl zwischen wässriger Mehrkammeranlage, elektrolytischer Formenreinigung oder Kohlenwasserstoff-/Dampfphasensystem.
  • Sacklöcher, Innenkanäle & Oberflächenempfindlichkeit: Kleinste Bohrungsdurchmesser sowie Anforderungen an umschaltbare Frequenzen (28/40 kHz), Hochfrequenz-Optikreinigung (80/120 kHz) oder 950-kHz-Megaschall.
  • Trocknungs- & Korrosionsschutzverfahren: Auswahl zwischen manuellem Abblasen, Luftmesser-Abstreifung, Rostschutz-Passivierung, Umluft-Trockentunnel, Rotations-Zentrifugaltrocknung oder Vakuumtrocknung.
  • Aufstellfläche & Medienversorgung: Verfügbare Hallenlänge, Raumhöhe für Elektrokettenzug oder SPS-Portalarm, Stromanschluss sowie optionale Einbindung von Reinstwasseranlagen (RO+EDI), Prozesskühlern und Abwasseraufbereitung.

Häufig gestellte Fragen (FAQ)

Was unterscheidet die 950-kHz-Megaschallreinigung von 120-kHz-Ultraschall?

950 kHz Megaschall reduziert die akustische Grenzschicht auf ca. 0,8 μm und löst Submikron-Partikel durch gerichtete akustische Strömung statt durch implodierende Kavitationsblasen.

Welche Leistungen bieten die Jietai 950-kHz-Megaschallschwinger?

Die Baureihe umfasst Z4A95012-B (120 W, 45×45 mm), Z8B95024-B (240 W, 72×45 mm) und Z16B95048-B (480 W, 126×45 mm) mit FKM-Fluorkautschukdichtung.

Wie werden Wasserflecken auf Siliziumwafern verhindert?

Durch Kaskadenspülung mit zweistufigem RO+EDI-Reinstwasser (JTC-1TRO) und anschließende HEPA-Heißluft- oder IPA-Trocknung.

Vollständiges Produktkategorien-Verzeichnis

Automobilfertigung · Digital-Serie mit Leistungsregelung · Digitale Multifunktions-Serie · Einkammer-Ultraschallreinigungsanlagen · Halbleiterindustrie · Industrielle Standard-Mehrkammer-Reinigungsanlagen · Kundenspezifische Sonderanlagen · Medizintechnik · Optoelektronik · Präzisionsteilefertigung · Serie mit mechanischer Bedienung · Ultraschall-Tauchschwinger · Ultraschallgeneratoren · Vierkammer-Ultraschallreinigungsanlagen · Zubehör und Verbrauchsmaterialien · Zweikammer-Ultraschallreinigungsanlagen

Ausgewählte Industrie-Ultraschallanlagen

Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Smartphone-Kameraeinfassungen · Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage · Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Trocknung · Umkehrosmose-Membrananlage · Kühler · Reinigungsblatt · 950-kHz-Megaschall-Reinigungsschwinger · Ultraschall-Tauchschwinger · Ultraschallgenerator · Zweifrequenz-Ultraschallreinigungsanlage · Serie mit digitaler Leistungsregelung · Vierkammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Spülen + Trocknung · Dreikammer-Serie: Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen + Trocknung · Einkammer-Ultraschallreinigungsanlage + Filtersystem · Vollautomatische umweltfreundliche Ultraschallreinigungsanlage für Wafer und Siliziumchips · Manuelle Anlage zum EP-Elektropolieren, Passivieren und Reinigen von Halbleiter-Ventilgehäusen · Vollautomatisches Ultraschallreinigungssystem für Halbleiterwafer · Auskochwanne · Elektrolytische Ultraschallreinigungs- und Trocknungsanlage für Formen · Vollautomatische Einkammer-Reinigungsanlage mit Hubsystem · Vollautomatische Ultraschallreinigungslinie für Vorrichtungen für Mobiltelefonkameras · Industrielle Ultraschallreinigungsanlage mit einer Wanne · Manuelle Reinigungsanlage mit 7 Wannen · Ultraschall-Durchlaufreinigungsanlage für elektronische Wägezellen mit Spritzspülen und Heißlufttrocknung · Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage für Hydraulikzylinderrohre · Tunneltrocknungsofen mit Heißluftumwälzung · Manuelle Ultraschallreinigungsanlage · Ultraschallreinigungsanlage mit elektrischem Hebezeug · Ultraschallreinigungs- und Zentrifugaltrocknungssystem für Flugzeugräder · 3-Wannen-Ultraschallreinigungsanlage · Tunneltrocknungsanlage mit Fördersystem · Vollautomatische Ultraschallreinigungsanlage für Hydraulikzylinderrohre · Manuelle Ultraschallreinigungsanlage mit oszillierender Warenbewegung

Weiterführende Technik- & Auslegungsleitfäden

950 kHz Megaschall-Waferreinigung vs. 28–120 kHz Halbleiter-Ultraschall-Nassbänke · Ultraschallreinigungskorb: Auswahl und Reinigungswirkung · Ultraschallreinigungsanlage: Auswahl und Vergleich · Ultraschallwandler: Funktion, Bauarten und Austausch · Ultraschallreinigung von Injektoren im Serienbetrieb: Was Wiederaufbereiter brauchen und ein Tischgerät nicht leisten kann · Ultraschallreinigung von Motorblöcken: Beckengröße, Kohlenstoffentfernung und das Aluminiumproblem · RO- oder DI-Wasser für Ultraschall-Spülstufen: Wenn Leitungswasser Ihre Bauteile kostet · Was „der beste industrielle Ultraschallreiniger“ wirklich bedeutet: Eine Checkliste für Käufer · Den richtigen Ultraschallreiniger für medizinische Instrumente auswählen · Ultraschallreiniger von 1,3 bis 30 Liter: Wannenmaße, Leistung und Baureihen · Umweltschutztrends bei industriellen Reinigungsanlagen · Wie Ultraschallreinigung tatsächlich funktioniert · Warum Sacklochbohrungen verschmutzt bleiben, obwohl das Bauteil sauber aussieht · Bedienungsanleitung für die Multifunktions-, Mechanik- und Digital-Serie (PDF auf Englisch)

Empfohlene industrielle Ultraschallreinigungsanlagen von Jietai für diesen Prozess: Zwei-Kammer-Serie für Ultraschallreinigung + Filtration + Spülen (DUAL), Kühler (CHILLER), 1 Ton Reinstwassersystem mit zweistufiger Umkehrosmose + EDI (1), Reinigungsblatt (CLEANING).

Vollständiges Verzeichnis der Ultraschallanlagen, Kategorien & Leitfäden
Frequently Asked Questions – Häufig gestellte technische Fragen (FAQ)

Wie wählt man zwischen 28 kHz, 40 kHz und 80–120 kHz Ultraschallfrequenz?

28 kHz eignet sich für starke Verschmutzungen auf Guss- und Stahlteilen, 40 kHz ist der Industriestandard für CNC-Bauteile, und 80–120 kHz schützt empfindliche Optik- und Halbleiteroberflächen.

Welche Wannengröße und Leistungsdichte werden für die Serienreinigung benötigt?

Planen Sie 10–15 W/L Ultraschall-Leistungsdichte für die Standardentfettung sowie SUS304/SUS316L Edelstahlwannen mit Filtration und Heißlufttrocknung.

Welche Zertifizierungen erfüllen die Ultraschallreinigungsanlagen von JieTai?

Unsere industriellen Ultraschallreinigungsanlagen entsprechen den Richtlinien CE, FCC und RoHS.

Complete Industrial Ultrasonic Equipment & Technical Guide Directory (DE)

Jetzt Kontakt aufnehmen