3-Kammer-Sprüh- und Trocknungssystem

Das JTM-30120AD 3-Kammer-Sprüh- und Trocknungssystem ist mit einem Ultraschallsystem mit breitem Frequenzbereich von 28KHZ-40KHZ ausgestattet, um die Anforderungen an die Präzisionsreinigung von Vorrichtungen aus unterschiedlichen Materialien zu erfüllen. Die Temperatur lässt sich von Umgebungstemperatur bis 100℃ einstellen. Die Anlage ist auf Waferträger für die Halbleiterfertigung, Fotolithografievorrichtungen und präzise Werkzeugaufnahmen zugeschnitten und integriert Hochdruck-Sprühreinigung und Heißlufttrocknung. Durch die Kombination von Ultraschalltechnik und allseitiger Sprühspülung entfernt sie Fotolackreste, Siliziumpartikel, organische Fette und verschiedene prozessbedingte Anhaftungen effizient. Auch Verunreinigungen in Spalten und Nuten werden gründlich beseitigt. Die Trocknung mit zirkulierender Heißluft verhindert Wasserflecken und eine erneute Partikelkontamination der Wafer. Die Anlage verfügt über einen automatischen Portaltransport mit 3 Stationen, Gesamtabmessungen von 4.3M2.5M2.7M, eine Gesamtleistung von 65KW und ein Nettogewicht von 3000kg. Sie besteht aus korrosionsbeständigen Materialien für hohe Sauberkeitsanforderungen und ist mit einer präzisen Umlauffiltration sowie Auffangeinrichtungen für Abgase und Abflüssigkeiten ausgestattet. Dadurch ermöglicht sie eine stabile, zyklische Serienreinigung von Wafer-Werkzeugvorrichtungen und erfüllt die strengen Sauberkeitsanforderungen der Halbleiterfertigung.