Sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático para obleas semiconductoras

El sistema de limpieza por ultrasonidos totalmente automático JTM-10720AD de 10 cubas está especialmente diseñado para la limpieza de obleas semiconductoras. Utiliza una frecuencia ultrasónica de 40KHz y permite regular la temperatura desde la temperatura ambiente hasta 100℃ para adaptarse a distintos materiales de oblea y contaminantes. Mediante una cavitación ultrasónica estable y uniforme, elimina eficazmente residuos orgánicos, micropartículas, impurezas de iones metálicos y residuos de procesamiento adheridos a las superficies de las obleas, evitando arañazos superficiales, la readhesión de partículas y la contaminación cruzada. Equipado con una estructura automática de transporte por pórtico de 10 estaciones, tiene dimensiones totales de 12M2M2.6M, potencia total de 100KW y peso neto de 5000kg. Fabricado con materiales resistentes a la corrosión y adecuados para altos niveles de limpieza, e incorporando filtración de precisión por recirculación y un sistema de control de temperatura constante, el equipo ofrece un funcionamiento estable y un alto nivel de limpieza. Se utiliza ampliamente para la limpieza húmeda de precisión de obleas de silicio, obleas de carburo de silicio, sustratos de zafiro y otros materiales semiconductores, satisfaciendo los estrictos requisitos de limpieza ultraalta del grabado, el recubrimiento, el encapsulado y otros procesos iniciales de fabricación de semiconductores.