Máquina de limpieza de obleas semiconductoras

La máquina de limpieza de obleas semiconductoras totalmente automática JTM-100504AD de 10 cubas está desarrollada para el proceso de limpieza de alta precisión de obleas semiconductoras. Equipada con un sistema ultrasónico de doble frecuencia de 40kHz–80kHz, integra limpieza alcalina por ultrasonidos, limpieza ácida por ultrasonidos y enjuague con agua desionizada en varias etapas, con una temperatura máxima de limpieza de 60℃. Elimina eficazmente residuos de fotorresina, contaminantes particulados, impurezas metálicas, grasas orgánicas y óxidos inorgánicos de las superficies de las obleas, evitando microdaños, la readhesión de partículas y la contaminación cruzada para garantizar una limpieza superficial ultraalta y una elevada planitud. Con una disposición de cubas de 10 estaciones y transporte automático por pórtico, dimensiones totales de 12M2M2.8M, potencia total de 120KW y peso neto de 5000kg, la máquina incorpora una estructura hermética resistente a la corrosión, control preciso de temperatura y filtración por recirculación de alta eficiencia. Es adecuada para la limpieza húmeda de obleas de silicio, obleas de SiC, obleas de zafiro y otros sustratos semiconductores. Cumple las estrictas especificaciones de limpieza de los procesos iniciales de fabricación de semiconductores y proporciona un pretratamiento fiable para el recubrimiento, el grabado, la unión y otros procedimientos esenciales de fabricación.